WEK-WS674加速器M區(qū)內(nèi)外測量支架,WEK-WS674 M區(qū)內(nèi)外測量支架主要輔助測試加速器機(jī)頭下患者平面M區(qū)內(nèi)外的泄漏等輻射劑量,支架根據(jù)WS674的方法在不同位置的孔內(nèi)放射熱釋光劑量片來測量泄漏輻射劑量應(yīng)在體模中測量,體模各邊比照射野至少大 5 cm;體模的深度至少比測量深度大 5 cm,入射表面垂直于參考軸,放置在正常治療距離。
WEK-WS674加速器M區(qū)內(nèi)外測量支架,WEK-WS674 M區(qū)內(nèi)外測量支架配置清單:
名稱 |
數(shù)量 |
規(guī)格和用途 |
探測器盤放置劑量片孔 |
41個(gè) |
41個(gè)劑量片放置孔布置在圓盤不同位置上 |
鋁管放置劑量片孔 |
32個(gè) |
|
鋁管1 |
8件 |
10×10mm,長1448mm;鋁管1,3,5,7,9,11,13,15編號(hào)與圓盤對(duì)應(yīng)編號(hào)連接在一起 |
鋁管2 |
8件 |
10×10mm,長965mm;鋁管2,4,6,8,10,12,14,16編號(hào)與圓盤對(duì)應(yīng)編號(hào)連接在一起 |
定位銷鑼絲 |
16 |
M6鑼絲用來固定鋁管與器盤連續(xù) |
探測器托盤 |
1件 |
用于放置探測元件 |
安裝說明書 |
1份 |
/ |
測試方法:
X 射線照射時(shí)相對(duì)表面劑量檢測方法
應(yīng)在體模中測量,體模各邊比照射野至少大 5 cm;體模的深度至少比測量深度大 5 cm,入射表 面垂直于參考軸,探測器放置在正常治療距離。
應(yīng)從輻射束中移開所有不用工具就可取下的輻射束形成裝置,所有均整過濾器應(yīng)留在其規(guī)定位置上,在最大照射野下,對(duì)表 2 中給出的電子能量分別測量相對(duì)表面劑量。
透過限束裝置的泄漏輻射檢測方法
X 射線穿過限束裝置
測量條件如下:
用至少 2 個(gè)十分之一值層的 X 射線吸收材料將射線出線口完全屏蔽。對(duì)非重疊式限束裝置,應(yīng)在最小照射野尺寸下測量;
最大泄漏輻射處用輻射探測器測量,輻射探測器的橫截面應(yīng)≤1 cm2;
應(yīng)在體模中最大吸收劑量深度處測量。
泄漏輻射測量按如下方法進(jìn)行:
將矩形照射野對(duì)稱地設(shè)定成最大(X 方向)乘最小(Y 方向);
用輻射探測器測量 24 個(gè)點(diǎn),確定其平均值,求出相對(duì)于最大吸收劑量的百分比值;
再對(duì)稱地設(shè)定最小(X 方向)乘最大(Y 方向)照射野,重復(fù) A.3.1.2 b)的檢測;
對(duì)所有的 X 射線能量,重復(fù)上述測量。
如果有一個(gè)多元限束裝置,則打開可調(diào)節(jié)或可互換的限束裝置,以產(chǎn)生一個(gè)面積約為 300 cm2(約 18 cm×18 cm)的正方形照射野。把多元限束裝置關(guān)閉到與該照射野協(xié)調(diào)一致的最小值,用輻射探測器測量多元限束裝置屏蔽的區(qū)域。
電子線穿過限束裝置
測量條件如下:
用 10 mm 與組織等效的材料作為建成模擬構(gòu)成,對(duì)所有尺寸的電子束限束器/限束系統(tǒng),在對(duì) 應(yīng)的最大和最小能量下,基于型式試驗(yàn)中規(guī)定的電子能量所測數(shù)據(jù)的最不利組合下,在正常治 療距離處做射線攝影;
在幾何照射周邊外 2 cm 處的線和 M 區(qū)域邊界之間區(qū)域中定出最大吸收劑量點(diǎn)的位置;
用一橫截面不大于 1 cm2 的輻射探測器進(jìn)行測量,探頭對(duì)于從輻射探測器下面的物質(zhì)散射的輻射要有足夠的防護(hù)。
按如下方法進(jìn)行測量:
在 M區(qū) 中,沿八條分割線,以 2 cm 的間隔,從幾何照射野周邊外 5 cm 的點(diǎn)到 M 邊 界內(nèi),用輻射探測器測量;
對(duì)每個(gè)電子束限束器/限束系統(tǒng),確定輻射探測器讀數(shù)的平均值對(duì)應(yīng)參考軸上正常治療距離處 最大吸收劑量的百分比值。
M 區(qū)域外的泄漏輻射測量(中子除外)
測量條件如下:
基于型式實(shí)驗(yàn)結(jié)果,在給出最大泄漏輻射的組合條件下;
在所有的 X 射線能量和在最高的電子線能量下,確定最大泄漏輻射的點(diǎn),在這些點(diǎn)上用輻射探測器測量。